[发明专利]量子点彩膜基板及其制备方法有效
| 申请号： | 201811455682.X | 申请日： | 2018-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109343267B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 杨超群;黄长治 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 量子 点彩膜基板 及其 制备 方法 | ||
1.一种量子点彩膜基板，包括：
一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域；其特征在于：
所述第一子像素区域上具有第一量子点材料；
所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料相同且所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的材料与所述数个第一子像素区域的材料不同；
所述数个第二子像素区域及所述数个第三子像素区域的所述材料包括图案化处理的光阻材料；所述光阻材料包括一第二量子点材料及一第三量子点材料，所述量子点彩膜基板的制备方法包括在所述基板上涂布一层所述光阻材料及直接对所述光阻材料进行图案化处理，去除所述第一子像素区域上的所述光阻材料。
2.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板，其特征在于：所述第一量子点材料包括一蓝色量子点材料。
3.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板，其特征在于：所述第二子像素区域上具有一层绿色滤光膜、所述第三子像素区域上具有一层红色滤光膜。
4.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板，其特征在于：所述基板上具有一黑色矩阵分隔所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、及所述第三子像素区域。
5.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板，其特征在于：所述第三量子点材料包括一红色量子点材料，所述第二量子点材料包括一绿色量子点材料。
6.一种量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板，所述基板包括数个第一子像素区域、数个第二子像素区域、及数个第三子像素区域，所述第一子像素区域上具有一层第一量子点材料；
步骤S2、在所述基板上涂布一层光阻材料；及
步骤S3、直接对所述光阻材料进行图案化处理，去除所述第一子像素区域上的所述光阻材料；
所述光阻材料中包括一第二量子点材料及一第三量子点材料。
7.根据权利要求6所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于：所述第一量子点材料包括一蓝色量子点材料。
8.根据权利要求6所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于：所述提供一基板的步骤中，所述基板的所述第二子像素区域上具有一层绿色滤光膜、所述第三子像素区域上具有一层红色滤光膜。
9.根据权利要求6所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于：所述提供一基板的步骤中，所述基板上具有一黑色矩阵分隔所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、及所述第三子像素区域。
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