[发明专利]一种增强型离子源

摘要

本发明涉及一种增强型离子源，属于离子源的技术领域；所述离子源腔室沿工作气体流动方向依次设置有气体入口、气体均布室、气体出口、电离室与离子射出口；所述电离室用于工作气体的电离；所述气体均布室用于工作气体的流速降低和均匀分布。本发明设有用于工作气体降低流速、均匀分布的气体均布室，流速进一步的变得缓慢，当为多种工作气体的混合时，也是可以将工作气体更加均匀的混合，在对工作气体进行电离时，测其离子射出口的电流，其远远高于未设置气体均布室时的数据，本发明的离子源具有较高的离化效率。

主权项

1.一种增强型离子源，包括离子源腔室(1)，其特征在于：所述离子源腔室(1)沿工作气体流动方向依次设置有气体入口(41)、气体均布室(4)、气体出口(42)、电离室(7)与离子射出口(5)；所述电离室(7)用于工作气体的电离；所述气体均布室(4)用于工作气体的流速降低和气体均匀分布。