[发明专利]一种增强型离子源在审

专利信息
申请号: 201811435856.6 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109559969A 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: 莫申波;周卫星 申请(专利权)人: 合肥如一真空设备有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 34118 代理人: 王挺
地址: 230601 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 工作气体 均布 增强型离子源 电离室 离子源 射出口 电离 离子 离子源腔室 流速降低 气体出口 气体入口 依次设置 离化 流动
【权利要求书】:

1.一种增强型离子源,包括离子源腔室(1),其特征在于:所述离子源腔室(1)沿工作气体流动方向依次设置有气体入口(41)、气体均布室(4)、气体出口(42)、电离室(7)与离子射出口(5);所述电离室(7)用于工作气体的电离;所述气体均布室(4)用于工作气体的流速降低和气体均匀分布。

2.根据权利要求1所述的一种增强型离子源,其特征在于:所述电离室(7)内设有电场产生部件和磁场产生部件(3);所述电场产生部件包括平行设置的阴极(6)与阳极(2);所述阳极(2)位于电离室(7)中部;所述阴极(6)与离子射出口(5)分别设于电离室(7)的壁上;所述磁场产生部件(3)的设置方向与电场产生部件的电场线方向相垂直。

3.根据权利要求1所述的一种增强型离子源,其特征在于:所述气体均布室(4)为至少3个相串联的气室。

4.根据权利要求3所述的一种增强型离子源,其特征在于:所述气室数至少包括第一气室(43)、第二气室(44)与第三气室(45);所述气体入口(41)设于第一气室(43)的室壁上,气体出口(42)设于第三气室(45)的室壁上;所述第一气室(43)与第二气室(44)、第二气室(44)与第三气室(45)之间分别设置有用于气流导通的第一导通口(46)和第二导通口(47);所述气体入口(41)与第一导通口(46)、第一导通口(46)和第二导通口(47)均彼此错位排布。

5.根据权利要求4所述的一种增强型离子源,其特征在于:所述第一导通口(46)为均匀设置;所述第二导通口(47)为均匀设置。

6.根据权利要求1所述的一种增强型离子源,其特征在于:所述阴极(6)与阳极(2)间加设有3000V~5000V的高压电场;所述电场的电场强度、磁场产生部件(3)产生磁场的磁场强度以及粒子的旋转半径满足洛伦茨力公式。

7.根据权利要求4所述的一种增强型离子源,其特征在于:所述第二气室(44)室壁上设置有凸块,所述第二导通口(47)沿气流方向设置于凸块处。

8.根据权利要求7所述的一种增强型离子源,其特征在于:所述凸块靠近第一气室(43)的室壁。

9.根据权利要求1所述的一种增强型离子源,其特征在于:所述工作气体为氩气、氮气、乙炔、氧气、氢气、甲烷的至少一种。

10.根据权利要求1所述的一种增强型离子源,其特征在于:所述磁场产生部件(3)为永磁铁。

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