[发明专利]一种大麻药苷A晶体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811423872.3 申请日: 2018-11-27
公开(公告)号: CN109336946B 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 林亲雄 申请(专利权)人: 中南民族大学
主分类号: C07J63/00 分类号: C07J63/00
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 吕露
地址: 430000 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种大麻药苷A晶体及其制备方法,涉及中药提取领域。大麻药苷A晶体在7.34±0.02、8.45±0.02、11.26±0.02、12.84±0.02、14.72±0.02、15.44±0.02、17.21±0.02、18.76±0.02、19.85±0.02、22.41±0.02、24.07±0.02、26.18±0.02、28.53±0.02、30.45±0.02处显示X‑射线衍射特征峰。大麻药苷A晶体的制备方法采用高效的溶剂析出、结晶纯化技术可将纯度相对较低的大麻药苷A粗品纯化制备高纯度特定晶型的大麻药苷A晶体,该工艺流程简单,生产成本低,有机溶剂易于回收利用,适合规模化连续化生产的要求。
搜索关键词: 一种 麻药 晶体 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种大麻药苷A晶体,其特征在于,所述大麻药苷A晶体以2θ角度和晶面间距表示的,使用Cu‑Kα辐射的X‑射线衍射图谱在7.34±0.02、8.45±0.02、11.26±0.02、12.84±0.02、14.72±0.02、15.44±0.02、17.21±0.02、18.76±0.02、19.85±0.02、22.41±0.02、24.07±0.02、26.18±0.02、28.53±0.02、30.45±0.02处显示衍射特征峰。
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