[发明专利]X射线成像装置及X射线成像方法有效
| 申请号： | 201811417134.8 | 申请日： | 2018-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN109507215B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 戴庆;李振军;李驰;白冰 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G01N23/2251 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种X射线成像装置及X射线成像方法。该X射线成像装置包括X射线发射器、X射线强度探测器和控制模块；所述X射线发射器、待测物以及所述X射线强度探测器沿X射线传输方向依次设置；其中，所述X射线发射器包括靶材和阵列排布的电子发射源；所述靶材与各所述电子发射源均相对设置；各所述电子发射源均与所述控制模块连接，所述控制模块还与所述X射线强度探测器连接。本发明提供的X射线成像装置可以降低X射线成像装置的制造难度、制造成本以及提升成像的空间分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种X射线成像装置，其特征在于，包括X射线发射器、X射线强度探测器和控制模块；所述X射线发射器、待测物以及所述X射线强度探测器沿X射线传输方向依次设置；其中，所述X射线发射器包括靶材和阵列排布的电子发射源；所述靶材与各所述电子发射源均相对设置；各所述电子发射源均与所述控制模块连接，所述控制模块还与所述X射线强度探测器连接。
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