[发明专利]一种氧化铝薄膜及其制备方法和应用

摘要

本发明提供一种氧化铝薄膜及其制备方法和应用，所述氧化铝薄膜包括底层氧化铝薄膜和外层氧化铝薄膜，所述制备方法具体包括以下步骤：设定原子层沉积系统的反应腔体温度，水相对于三甲基铝过量，利用原子层沉积法，得到底层氧化铝薄膜；重新设定原子层沉积系统的反应腔体温度，三甲基铝相对于水过量，利用原子层沉积法，在底层氧化铝薄膜上得到外层氧化铝薄膜，从而得到所述氧化铝薄膜。本发明的制备方法制备得到的氧化铝薄膜具有双层结构，底层膜含有大量‑OH基团，在高温处理过程中，释放出H钝化硅片表面的悬挂键。外层氧化铝薄膜含有较少‑OH基团，不会在高温处理过程中释放太多的H2，不会造成钝化膜层的损坏。

主权项

1.一种氧化铝薄膜的制备方法，其特征在于，所述氧化铝薄膜包括底层氧化铝薄膜和外层氧化铝薄膜，所述制备方法具体包括以下步骤：(1)设定原子层沉积系统的反应腔体温度，水相对于三甲基铝过量，利用原子层沉积法，得到底层氧化铝薄膜；(2)重新设定原子层沉积系统的反应腔体温度，三甲基铝相对于水过量，利用原子层沉积法，在底层氧化铝薄膜上得到外层氧化铝薄膜，从而得到所述氧化铝薄膜。