[发明专利]磁控溅射装置在审
| 申请号： | 201811341125.5 | 申请日： | 2018-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN109321889A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 王坤;张武斌;周盈盈;丁宇;刘旺平;艾海平;乔楠;吕蒙普;胡加辉;李鹏 | 申请（专利权）人： | 华灿光电（浙江）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;C30B23/02 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 徐立 |
| 地址： | 322000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射装置。该磁控溅射装置包括载台和用于连接注气设备的匀气管，匀气管呈圆弧状，载台位于匀气管所在的圆周内，匀气管上具有多个出气孔，多个出气孔沿匀气管所在的圆周分布，多个出气孔的出气方向均指向匀气管所在圆周的圆心。通过设置成圆弧状的匀气管，载台位于匀气管所在的圆周内，由于匀气管上具有多个出气孔，这样在载台上生长外延片时，匀气管连接注气设备，可以通过多个出气孔注入气体。由于多个出气孔沿匀气管所在的圆周分布，且多个出气孔的出气方向均指向匀气管所在圆周的圆心，因此可以使匀气管所在的圆周范围内的气体的流量和分布更加均匀，从而可以提高生长出的外延片的厚度的均匀性，提高外延片的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 气管 出气孔 磁控溅射装置 载台 出气方向 圆周分布 注气设备 圆心 外延片 圆弧状 指向 气管连接 注入气体 均匀性 生长 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射装置，包括载台(40)，其特征在于，所述磁控溅射装置还包括用于连接注气设备的匀气管(50)，所述匀气管(50)呈圆弧状，所述载台(40)位于所述匀气管(50)所在的圆周内，所述匀气管(50)上具有多个出气孔(50a)，所述多个出气孔(50a)沿所述匀气管(50)所在的圆周分布，所述多个出气孔(50a)的出气方向均指向所述匀气管(50)所在圆周的圆心。
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