[发明专利]一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液及其应用有效
| 申请号： | 201811303460.6 | 申请日： | 2018-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN109554119B | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 窦文涛;宗艳民;梁庆瑞;王含冠;其他发明人请求不公开姓名 | 申请（专利权）人： | 山东天岳先进材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 济南千慧专利事务所(普通合伙企业) 37232 | 代理人： | 吴绍群 |
| 地址： | 250100 山东省济南市高新区*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液，所述抛光液包括：氧化剂、高硬度磨料和pH稳定剂，所述pH稳定剂为硝酸铝。本发明的抛光液在进行化学机械抛光过程能很好的保持pH值的稳定性，并且抛光液的分散稳定性好且分散均匀。本发明由于在抛光液中加入了pH值稳定剂硝酸铝，使得该抛光液在进行化学机械抛光过程中的pH值稳定性更强，并且抛光液不容易发生硬团聚。本发明的抛光液对环境无污染，可以采用循环供料的方式使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ph 稳定性 提高 碳化硅 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光液包括：氧化剂、高硬度磨料和pH稳定剂，所述pH稳定剂为硝酸铝。
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