[发明专利]银薄膜蚀刻液组合物及利用其的蚀刻方法以及金属图案形成方法在审
| 申请号： | 201811297108.6 | 申请日： | 2018-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN110241423A | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 金镇成;金炼卓;朴镛云 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人： | 杨黎峰;钟锦舜 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供银薄膜蚀刻液组合物及利用其的蚀刻方法以及金属图案形成方法，所述银薄膜蚀刻液组合物的特征在于，相对于组合物的总重量，包含：1至10重量％的(A)无机酸；30至70重量％的(B)有机酸；0.1至10重量％的(C)过氧化物；0.01至1重量％的(D)在一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物；0.01至1重量％的(E)三氮唑化合物；以及(F)余量的水。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻液组合物 银薄膜 蚀刻 金属图案 三氮唑化合物 水溶性化合物 过氧化物 氮原子 无机酸 有机酸 羧基 | ||
【主权项】：
1.一种银薄膜蚀刻液组合物，其特征在于，相对于组合物的总重量，包含：1至10重量％的(A)无机酸；30至70重量％的(B)有机酸；0.1至10重量％的(C)过氧化物；0.01至1重量％的(D)在一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物；0.01至1重量％的(E)三氮唑化合物；以及(F)余量的水。
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