[发明专利]具有CMP抛光垫用的高UV透明度的脂肪族UV固化的聚氨基甲酸酯光学终点检测窗口有效
申请号: | 201811264918.1 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN109794848B | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | M·R·加丁科 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/20 | 分类号: | B24B37/20;B24B37/24;B24B37/26;B24B49/12;B24D11/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋;胡嘉倩 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供化学机械(CMP)抛光垫,用于抛光选自包括所述CMP抛光垫的半导体衬底的衬底,并且具有一个或多个终点检测窗口,所述窗口为具有两个(甲基)丙烯酸酯端基的线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体或其环脂肪族氨基甲酸酯寡聚物与脂肪族引发剂的反应混合物的固化产物,所述(甲基)丙烯酸酯端基经由环脂肪族二氨基甲酸酯键合至平均分子量为450至2,000的聚醚、聚碳酸酯或聚酯链,其中所述氨基甲酸酯大分子单体中的总异氰酸酯含量在3.3至10重量%范围内,并且进一步地,其中,所述组合物包括小于5重量%的未反应的(甲基)丙烯酸酯单体,并且大体上不含未反应的异氰酸酯。无论其硬度或缺乏硬度,所述终点检测窗口在潮湿时均具有出色耐用性。 | ||
搜索关键词: | 具有 cmp 抛光 uv 透明度 脂肪 固化 氨基甲酸酯 光学 终点 检测 窗口 | ||
【主权项】:
1.一种化学机械(CMP)抛光垫,用于抛光选自包括所述CMP抛光垫的磁性衬底、光学衬底和半导体衬底中的至少一者的衬底,所述CMP抛光垫具有一个或多个终点检测窗,其为具有两个(甲基)丙烯酸酯端基的线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体或其环脂肪族氨基甲酸酯寡聚物与脂肪族引发剂的反应混合物的固化产物,所述(甲基)丙烯酸酯端基经由环脂肪族二氨基甲酸酯键合至聚醚、聚碳酸酯或聚酯链,其中所述氨基甲酸酯大分子单体中的总异氰酸酯含量在3.3至10重量%范围内,并且进一步地,其中,所述组合物包括少于5重量%的未反应的(甲基)丙烯酸酯单体,并且大体上不含未反应的异氰酸酯。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司,未经罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811264918.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种铜加工研磨刷装置
- 下一篇:具有垫磨损指示器的抛光垫