[发明专利]具有CMP抛光垫用的高UV透明度的脂肪族UV固化的聚氨基甲酸酯光学终点检测窗口

权利要求书

1.一种化学机械(CMP)抛光垫，用于抛光选自包括所述CMP抛光垫的磁性衬底、光学衬底和半导体衬底中的至少一者的衬底，所述CMP抛光垫具有一个或多个终点检测窗，其为具有两个(甲基)丙烯酸酯端基的线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体或其环脂肪族氨基甲酸酯寡聚物与脂肪族引发剂的反应混合物的固化产物，所述(甲基)丙烯酸酯端基经由环脂肪族二氨基甲酸酯键合至聚醚、聚碳酸酯或聚酯链，其中所述线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体中的总异氰酸酯含量在3.3至10重量％范围内，并且进一步地，其中，所述固化产物包括少于5重量％的未反应的(甲基)丙烯酸酯单体，并且大体上不含未反应的异氰酸酯。

2.根据权利要求1所述的化学机械(CMP)抛光垫，其中所述线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体的所述环脂肪族二氨基甲酸酯含有C₆至C₁₈环脂肪族基团。

3.根据权利要求1所述的化学机械(CMP)抛光垫，其中所述线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体的所述环脂肪族二氨基甲酸酯含有C₁₀至C₁₆环脂肪族基团。

4.根据权利要求1所述的化学机械(CMP)抛光垫，其中所述线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体的所述环脂肪族二氨基甲酸酯为聚合二醇的活性氢与环脂肪族二异氰酸酯的反应产物，所述环脂肪族二异氰酸酯选自1,4-环己烷二异氰酸酯、4,4'-二环己基甲烷二异氰酸酯或异佛尔酮二异氰酸酯。

5.根据权利要求1所述的化学机械(CMP)抛光垫，其中所述线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体包括具有平均分子量为450至2,000的聚醚、聚碳酸酯或聚酯链的聚合二醇的氨基甲酸酯。

6.根据权利要求5所述的化学机械(CMP)抛光垫，其中所述线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体包括具有平均分子量为600至1,500的聚醚、聚碳酸酯或聚酯链的聚合二醇的所述氨基甲酸酯。

7.根据权利要求5所述的化学机械(CMP)抛光垫，其中所述聚合二醇包括聚丙二醇，聚乙二醇，聚丁二醇，含聚碳酸酯基团的二醇，或其嵌段共聚物或混合物。

8.根据权利要求1所述的化学机械(CMP)抛光垫，其中具有两个(甲基)丙烯酸酯端基的所述线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体包括两至十个环脂肪族二氨基甲酸酯基团，并且重均分子量为1,000至10,000。

9.根据权利要求1所述的化学机械(CMP)抛光垫，其中具有两个(甲基)丙烯酸酯端基的所述线性环脂肪族氨基甲酸酯大分子单体以酯化形式含有羟基官能的(甲基)丙烯酸烷酯。

10.根据权利要求1所述的化学机械(CMP)抛光垫，其中所述脂肪族引发剂为光引发剂，并且所述光引发剂的量在以所述反应混合物的总固体重量计，0.05至0.5重量％范围内。

11.根据权利要求10所述的化学机械(CMP)抛光垫，其中所述光引发剂的量在以所述反应混合物的总固体重量计0.08至0.15重量％范围内。