[发明专利]一种光学元件的镀膜装置及镀膜方法有效
| 申请号： | 201811249991.1 | 申请日： | 2018-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN109252139B | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 王刚;白云立;周于鸣;李昂;王培培;王利;陈序;张继友;肖正航 | 申请（专利权）人： | 北京空间机电研究所 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 张丽娜 |
| 地址： | 100076 北京市丰*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学元件的镀膜装置及镀膜方法，属于光学设备技术领域，可应用于薄膜光学制备技术领域。本发明利用金属材料设计一个膜层厚度均匀补偿装置，将其放置在两个蒸发源正中间一定高度位置上，在镀膜过程中，挡板状态不变，可同时对两个蒸发源的膜层厚度进行修正，且不互相干扰其均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 元件 镀膜 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件的镀膜装置，其特征在于：该镀膜装置包括镀膜机和挡板；挡板的数量为一个，且挡板放置在镀膜机的真空室内。
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