[发明专利]一种光学元件的镀膜装置及镀膜方法

权利要求书

1.一种光学元件的镀膜装置，其特征在于：该镀膜装置包括镀膜机和挡板；

挡板的数量为一个，且挡板放置在镀膜机的真空室内；

镀膜机包括真空室、左蒸发源、右蒸发源和夹具，左蒸发源、右蒸发源均放置在真空室的底端，夹具固定安装在真空室的顶端，夹具用于对待镀膜的光学元件进行装卡；

挡板的中心与左蒸发源的中心的距离标记为第一距离，挡板的中心与右蒸发源的中心的距离标记为第二距离，该第一距离和第二距离一致；

左蒸发源的中心与真空室底端中心的距离标记为第三距离，右蒸发源的中心与真空室底端中心的距离标记为第四距离，该第三距离和第四距离一致；

挡板为一长方形板，挡板的长度为真空室内径的一半；根据左蒸发源确定的挡板的宽度D的方法步骤如下：

定义如下参数：

第三距离、第四距离均使用L进行表示；

左蒸发源的最大蒸发角标记为a，使用夹具装卡的待镀膜的光学元件的底端中心与真空室底端的中心之间的距离为h；定义挡板的中心与真空室底端的中心的连线为真空室的对称轴；

挡板放置在真空室内的高度为H；

光学元件或工装夹具底部半径为r；

设挡板的最小宽度为2d，D2d，

2d＝2[tan(a)*h-L]

挡板的最大宽度为r+d，即2dD≤r+d。

2.根据权利要求1所述的一种光学元件的镀膜装置，其特征在于：根据左蒸发源确定的挡板放置在真空室内高度H的方法步骤如下：

将最小宽度的挡板放置到距离真空室底端的中心为h的位置处；

当左蒸发源在最大蒸发角时掠过挡板右侧边缘时，挡板的高度为h；左蒸发源在最大蒸发角时与真空室的对称轴的交点的高度为h2；则

则挡板放置在真空室内的高度为：h2≤H＜h。

3.根据权利要求2所述的一种光学元件的镀膜装置，其特征在于：挡板为一长方形板，挡板的长度为真空室内径的一半；根据右蒸发源确定的挡板的宽度D’的方法步骤如下：

设挡板的最小宽度为2d’，D’≥2d’，则

2d′＝2[tan(b)*h-L]

挡板的最大宽度为r+d’，即2d’≤D’≤r+d’。

4.根据权利要求3所述的一种光学元件的镀膜装置，其特征在于：根据右蒸发源确定的挡板放置在真空室内高度H’的方法步骤如下：

将最小宽度的挡板放置到距离真空室底端的中心为h的位置处；

当右蒸发源在最大蒸发角时掠过挡板左侧边缘时，挡板的高度为h；右蒸发源在最大蒸发角时与真空室的对称轴的交点的高度为h2’；则

则挡板放置在真空室内的高度为：h2’≤H’＜h。

5.根据权利要求4所述的一种光学元件的镀膜装置，其特征在于：挡板的宽度取D和D’的并集，挡板的高度取H和H’的交集。

6.根据权利要求1所述的一种光学元件的镀膜装置，其特征在于：挡板的材料为铝合金5A06或不锈钢304。

7.一种使用权利要求1-6任一所述的镀膜装置进行光学元件的镀膜方法，其特征在于该方法的步骤包括：

(1)将挡板放置到真空室内；

(2)给真空室抽真空；

(3)开始镀膜，镀膜结束后得到带有膜层的光学元件。