[发明专利]用于检测光掩模和裸片中的缺陷的检查设备及检查方法在审
| 申请号： | 201811197090.2 | 申请日： | 2018-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN109752390A | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 李刚源;闵徹基;朴锺主;宋弦昔 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/956 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘美华;韩芳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于检测光掩模和裸片中的缺陷的检查设备及检查方法，该缺陷检查设备包括被配置为从设计布局数据产生第一参考图像和第二参考图像的参考图像产生器。图像检查器被配置为获得光掩模的第一检查区域的第一检查图像和光掩模的第二检查区域的第二检查图像。操作处理器被配置为通过将第一检查图像与第一参考图像进行比较来提取第一坐标偏移，并且通过将第二检查图像与第二参考图像进行比较来提取第二坐标偏移。 | ||
| 搜索关键词： | 参考图像 检查图像 检查区域 检查设备 坐标偏移 光掩模 检测光 裸片 掩模 配置 缺陷检查设备 操作处理器 图像检查器 设计布局 数据产生 产生器 检查 | ||
【主权项】：
1.一种缺陷检查设备，所述缺陷检查设备包括：参考图像产生器，被配置为从设计布局数据产生第一参考图像和第二参考图像；图像检查器，被配置为获得光掩模的第一检查区域的第一检查图像和所述光掩模的第二检查区域的第二检查图像；以及操作处理器，被配置为通过将所述第一检查图像与所述第一参考图像进行比较来提取第一坐标偏移，并且通过将所述第二检查图像与所述第二参考图像进行比较来提取第二坐标偏移。
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