[发明专利]基于n型掺杂氧化镓倒装结构的深紫外LED垂直芯片在审
申请号: | 201811194480.4 | 申请日: | 2018-10-15 |
公开(公告)号: | CN109103309A | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 陈景文;张毅;单茂诚;谭波;龙翰凌;张爽 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学鄂州工业技术研究院;华中科技大学 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/00 |
代理公司: | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人: | 徐松 |
地址: | 436044 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开一种基于n型掺杂氧化镓倒装结构的深紫外LED垂直芯片,属于半导体LED芯片制造技术领域,包括P型薄膜层、电子阻挡层、多量子阱结构层、氮化铝镓材料层、氮化铝镓缓冲层和氧化镓衬底。P型薄膜层的制作材料是p型氮化铝镓材料;电子阻挡层设置有第一侧面和第二侧面;多量子阱结构层设置有第三侧面和第四侧面,多量子阱结构层通过第三侧面设置在第二侧面上;氮化铝镓材料层设置有第五侧面和第六侧面,氮化铝镓材料层通过第五侧面设置在第四侧面上;氮化铝镓缓冲层设置有第七侧面和第八侧面,氮化铝镓缓冲层通过第七侧面设置在第六侧面上。本发明达到无需对倒装结构的LED外延片的衬底材料进行剥离,便于制备深紫外LED垂直芯片的技术效果。 | ||
搜索关键词: | 侧面 氮化铝镓缓冲层 多量子阱结构层 深紫外LED 侧面设置 垂直芯片 氮化铝镓 倒装结构 材料层 氧化镓 电子阻挡层 芯片制造技术 半导体LED 衬底材料 技术效果 制作材料 衬底 制备 剥离 | ||
【主权项】:
1.一种基于n型掺杂氧化镓倒装结构的深紫外LED垂直芯片,其特征在于,所述基于n型掺杂氧化镓倒装结构的深紫外LED垂直芯片包括:P型薄膜层,所述P型薄膜层的制作材料是p型氮化铝镓材料;电子阻挡层,所述电子阻挡层设置有第一侧面和第二侧面,所述电子阻挡层通过所述第一侧面设置在所述P型薄膜层上,且所述第一侧面位于所述第二侧面和所述P型薄膜层之间;多量子阱结构层,所述多量子阱结构层设置有第三侧面和第四侧面,所述多量子阱结构层通过所述第三侧面设置在所述第二侧面上,且所述第三侧面位于所述第四侧面和所述第二侧面之间;氮化铝镓材料层,所述氮化铝镓材料层设置有第五侧面和第六侧面,所述氮化铝镓材料层通过所述第五侧面设置在所述第四侧面上,且所述第五侧面位于所述第六侧面和所述第四侧面之间;氮化铝镓缓冲层,所述氮化铝镓缓冲层设置有第七侧面和第八侧面,所述氮化铝镓缓冲层通过所述第七侧面设置在所述第六侧面上,且所述第七侧面位于所述第八侧面和所述第六侧面之间;氧化镓衬底,所述氧化镓衬底设置有第九侧面和第十侧面,所述氧化镓衬底通过所述第九侧面设置在所述第八侧面上,且所述第九侧面位于所述第十侧面和所述第八侧面之间。
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