[发明专利]一种离子注入机的硅片放置驱动装置在审
| 申请号： | 201811187346.1 | 申请日： | 2018-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN109285756A | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 丁桃宝;周琛怿 | 申请（专利权）人： | 苏州晋宇达实业股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 | 代理人： | 李宏伟 |
| 地址： | 215600 江苏省苏州市张家港市经*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离子注入机的硅片放置驱动装置，包括机架，机架上竖直滑动安装有升降台，升降台上固定有固定端盖，该固定端盖上设置有离子注入窗口和真空连接头，升降台上偏摆安装有活动盘体，升降台上安装有偏摆动力装置，活动盘体内转动安装有公转盘，该公转盘由固定于活动盘体上的公转动力装置驱动，公转盘上圆周均布有若干个自转盘架，每个自转盘架均转动安装于公转盘上且由自转动力装置驱动，自转盘架上设置有放置区域，该自转盘架上设置有用于卡紧硅片边缘的卡紧装置。该硅片放置驱动装置可以使离子束不移动而硅片旋转并移动，这样结构更加简单，并且每次离子注入的硅片量更大，效率更高。 | ||
| 搜索关键词： | 公转盘 转盘架 硅片放置 驱动装置 升降 离子注入机 固定端盖 活动盘体 转动安装 硅片 偏摆 升降台 动力装置驱动 离子注入窗口 自转动力装置 动力装置 放置区域 硅片边缘 竖直滑动 活动盘 紧装置 离子束 连接头 移动 均布 卡紧 离子 体内 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入机的硅片放置驱动装置，包括机架，其特征在于：所述机架上竖直滑动安装有升降台，该升降台由竖直伺服电机驱动竖直升降，所述升降台上固定有竖直设置的固定端盖，该固定端盖上设置有竖直延伸的离子注入窗口和用于抽真空系统连通的真空连接头，所述升降台上偏摆安装有活动盘体，所述升降台上安装有驱动活动盘体摆动的偏摆动力装置，所述偏摆动力装置驱动活动盘体在水平位置和竖直位置之间偏摆，活动盘体在竖直位置时与固定端盖之间密封配合，所述活动盘体内转动安装有公转盘，该公转盘由固定于活动盘体上的公转动力装置驱动，所述公转盘上圆周均布有若干个自转盘架，每个自转盘架均转动安装于公转盘上且由自转动力装置驱动，所述自转盘架上设置有用于放置硅片的放置区域，该自转盘架上设置有用于卡紧硅片边缘的卡紧装置，所述离子注入窗口的长度和位置均与硅片的直径适配。
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