[发明专利]一种离子注入机的硅片放置驱动装置

说明书

本发明公开了一种离子注入机的硅片放置驱动装置，包括机架，机架上竖直滑动安装有升降台，升降台上固定有固定端盖，该固定端盖上设置有离子注入窗口和真空连接头，升降台上偏摆安装有活动盘体，升降台上安装有偏摆动力装置，活动盘体内转动安装有公转盘，该公转盘由固定于活动盘体上的公转动力装置驱动，公转盘上圆周均布有若干个自转盘架，每个自转盘架均转动安装于公转盘上且由自转动力装置驱动，自转盘架上设置有放置区域，该自转盘架上设置有用于卡紧硅片边缘的卡紧装置。该硅片放置驱动装置可以使离子束不移动而硅片旋转并移动，这样结构更加简单，并且每次离子注入的硅片量更大，效率更高。

技术领域

本发明涉及一种硅片放置驱动装置，用于离子注入机中使用。

背景技术

离子注入机是半导体生产过程中所使用的一种设备，其原理是通过离子源产生多种离子，然后通过磁铁分析仪对多种离子进行筛选，最终有用的目标离子形成离子束，离子束经过加速磁场的加速作用后可以直接注入到硅片内，而目前一般的离子注入机在硅片注入时是通过离子束的移动来改变离子注入的位置，并且离子注入是分阶段的注入，受离子束的移动距离的影响，每次注入的硅片量都比较少，因而整体的效率比较低。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种离子注入机的硅片放置驱动装置，该硅片放置驱动装置可以使离子束不移动而硅片旋转并移动，这样结构更加简单，并且每次离子注入的硅片量更大，效率更高。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种离子注入机的硅片放置驱动装置，包括机架，所述机架上竖直滑动安装有升降台，该升降台由竖直伺服电机驱动竖直升降，所述升降台上固定有竖直设置的固定端盖，该固定端盖上设置有竖直延伸的离子注入窗口和用于抽真空系统连通的真空连接头，所述升降台上偏摆安装有活动盘体，所述升降台上安装有驱动活动盘体摆动的偏摆动力装置，所述偏摆动力装置驱动活动盘体在水平位置和竖直位置之间偏摆，活动盘体在竖直位置时与固定端盖之间密封配合，所述活动盘体内转动安装有公转盘，该公转盘由固定于活动盘体上的公转动力装置驱动，所述公转盘上圆周均布有若干个自转盘架，每个自转盘架均转动安装于公转盘上且由自转动力装置驱动，所述自转盘架上设置有用于放置硅片的放置区域，该自转盘架上设置有用于卡紧硅片边缘的卡紧装置，所述离子注入窗口的长度和位置均与硅片的直径适配。

作为一种优选的方案，所述升降台上设置有竖直的导杆，所述升降台通过导杆竖直滑动安装于机架上，所述竖直伺服电机通过丝杠螺母机构驱动升降台升降。

作为一种优选的方案，所述活动盘体的中心处转动安装有中心轴，该中心轴由公转动力装置驱动，所述公转盘可拆卸固定于中心轴上，所述升降台上设置有方便公转动力装置通过的通过孔。

作为一种优选的方案，所述中心轴的上端由上而下设置有螺纹轴段和多边形轴段，所述公转盘的中心设置有与多边形轴段适配的多边形孔，所述多边形孔套装于多边形轴段，中心轴上的螺纹轴段上螺纹安装有用于卡紧公转盘的压帽。

作为一种优选的方案，所述偏摆动力装置为偏摆气缸，所述偏摆气缸的缸体铰接在活动盘体的背部，所述升降台上水平滑动安装有滑块，所述偏摆气缸的活塞杆的端部铰接于滑块上，所述升降台上设置有在活动盘体水平放倒时容纳偏摆气缸的容纳凹槽。

作为一种优选的方案，所述卡紧装置包括圆周均布于放置区域外周的至少三个卡紧块，该卡紧块水平弹性滑动安装于自转盘架上，所述卡紧块上设置有向放置区域中心径向延伸的倾斜端部，所述倾斜端部的底部与放置区域的底部之间具有与硅片厚度适配的间隙，所述倾斜端部的内边缘靠近硅片的注入区域。

作为一种优选的方案，所述卡紧块包括卡紧块本体和设置于卡紧块本体上的导向杆，所述导向杆的自由端水平贯穿自转盘架且露出，所述导向杆的自由端上设置有螺纹段且安装有限位螺母，所述卡紧块本体与自转盘架之间设置有压缩弹簧。

作为一种优选的方案，所述卡紧块本体的倾斜端部的边角均为圆弧倒角，且倾斜端部的外部边缘均设置有耐磨塑料层。