[发明专利]一种刻蚀均匀的传感器单晶硅刻蚀装置

摘要

本发明是涉及传感器的技术领域，具体是涉及一种刻蚀均匀的传感器单晶硅刻蚀装置，片架由空心圆柱形转动柱和均匀固定连接在转动柱外壁的圆环板，且转动柱下端封底；每相邻两个圆环板之间的转动柱外壁均匀的开设有若干等高的滑孔，且滑孔与转动柱内壁连通；每相邻两个圆环板相对面分别均匀的开设有若干位置对应的滑槽；滑孔内滑动连接有贯穿滑孔的卡板，且卡板用于固定单晶硅片；卡板与相邻两个圆环板上位置对应的滑槽滑动连接，本发明具有使用方便、提高刻蚀效率、提高刻蚀效果、降低工人劳动强度等优点。

主权项

1.一种刻蚀均匀的传感器单晶硅刻蚀装置，包括有反应室，反应室的上端部设置有送气管道，其连接至设置在反应室外部的气源室，反应室的下端部设置有抽气管道，其连接至设置在反应室外部的真空泵；所述反应室的轴线位置设置有片架，其连接至设置在反应室外部的伺服电机的输出轴；所述反应室外侧设置有电磁线圈；其特征在于：所述的片架由空心圆柱形转动柱和均匀固定连接在转动柱外壁的圆环板，且转动柱下端封底；每相邻两个所述圆环板之间的转动柱外壁均匀的开设有若干等高的滑孔，且滑孔与转动柱内壁连通；每相邻两个圆环板相对面分别均匀的开设有若干位置对应的滑槽，且滑槽沿着圆环板的径向设置；所述滑孔内滑动连接有贯穿滑孔的卡板，且卡板用于固定单晶硅片；所述卡板与相邻两个圆环板上位置对应的滑槽滑动连接。