[发明专利]具有冷却真空密闭体的热壁反应器在审
| 申请号： | 201811141783.X | 申请日： | 2014-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN109616396A | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | 乔尔·M·休斯顿;阿伦·库瓦尔齐;迈克尔·P·卡拉津;约瑟夫·尤多夫斯凯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/46 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 于此提供用于处理基板的方法及设备。在一些实施方式中，用于处理基板的设备包含室主体，该室主体封闭处理空间，该室主体包括室地板、与该室地板耦合的室壁、及与该室壁可移除地耦合的室盖，其中该室地板、该室壁及该室盖的至少一者包括用于热控制介质的流动的通路；加热板，该加热板与该室地板相邻且间隔开来设置；套管，该套管与该室壁相邻且间隔开来设置，该套管由该加热板而受支持；及第一密封性元件，该第一密封性元件在该室壁及该室盖间的第一界面处设置。 | ||
| 搜索关键词： | 室壁 地板 加热板 室主体 套管 室盖 处理基板 密封性 耦合的 热壁反应器 封闭处理 冷却真空 界面处 可移除 密闭体 热控制 流动 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理基板的设备，包括：室主体，所述室主体封闭处理空间，所述室主体包括室地板、与所述室地板耦合的室壁、及与所述室壁可移除地耦合的室盖，其中所述室地板、所述室壁及所述室盖的至少一者包括用于热控制介质的流动的通路；加热板，所述加热板与所述室地板相邻且间隔开来设置；套管，所述套管与所述室壁相邻且间隔开来设置，所述套管由所述加热板而受支持；及第一密封性元件，所述第一密封性元件在所述室壁及所述室盖之间的第一界面处设置。
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