[发明专利]印刷Al2O3制备高效PERC电池的制备方法在审
申请号: | 201811136735.1 | 申请日: | 2018-09-28 |
公开(公告)号: | CN109560143A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 张松;梁小静;刘慎思;陶智华;郑飞 | 申请(专利权)人: | 上海神舟新能源发展有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/18 |
代理公司: | 上海航天局专利中心 31107 | 代理人: | 许丽 |
地址: | 201112 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及印刷Al2O3制备高效PERC电池的方法,包括步骤:硅片去除损伤层,表面抛光、单面制绒,形成金字塔绒面;将带有金字塔绒面的硅片,在高温、含磷的环境中,形成N+发射结;将带有N+发射结硅片至于HNO3/HF溶液中,去除带有N+发射结硅片的背面和边缘绕度的重掺杂N+区域,降低其漏电;采用丝网印刷的方式,印刷Al2O3前驱体,经过烘干、高温退火形成高钝化质量的Al2O3层;将高钝化质量的Al2O3层的硅片的正面及背面,采用PECVD或磁控溅射法,沉积80nm‑100nm的氢化非晶氮化硅钝化减反射层;对所述氢化非晶氮化硅钝化减反射层进行选择性图形化开膜;通过丝网印刷的方式,在获得的开膜后的硅片的背面处印刷铝浆和银电极,正面印刷金属电极栅线,形成正背面电极金属化接触。 | ||
搜索关键词: | 硅片 发射结 制备 印刷 背面 氮化硅钝化 减反射层 丝网印刷 氢化非 钝化 去除 电池 磁控溅射法 电极金属化 金字塔绒面 选择性图形 漏电 表面抛光 单面制绒 高温退火 金属电极 正面印刷 前驱体 损伤层 银电极 正背面 重掺杂 烘干 铝浆 绕度 栅线 沉积 金字塔 | ||
【主权项】:
1.印刷Al2O3制备高效PERC电池的方法,其特征在于,包括步骤:步骤1:硅片在一碱制绒槽中去除损伤层,并进行表面抛光、单面制绒,形成1μm‑6μm高的金字塔绒面;步骤2:将步骤1中获得的带有金字塔绒面的硅片,在750‑860摄氏度的高温、含磷的石英管环境中,通过高温扩散,形成N+发射结;步骤3:将步骤2中获得的带有N+发射结硅片至于装有HNO3/HF溶液的产线湿法刻蚀设备中,刻蚀去除带有N+发射结硅片的背面和边缘绕度的重掺杂N+区域,降低其漏电;步骤4:采用丝网印刷的方式,将步骤3获得的刻蚀去除带有N+发射结硅片的背面和边缘绕度的重掺杂N+区域的硅片的背面印刷Al2O3前驱体,经过烘干、高温退火形成高钝化质量的Al2O3层;步骤5:在步骤4获得的高钝化质量的Al2O3层的硅片的正面及背面,采用PECVD或磁控溅射法,沉积80nm‑100nm的氢化非晶氮化硅钝化减反射层;步骤6:采用ns或Ps激光对所述氢化非晶氮化硅钝化减反射层进行选择性图形化开膜,为形成局部接触做准备;步骤7:通过丝网印刷的方式,在步骤6获得的开膜后的硅片的背面处印刷铝浆和银电极,正面印刷金属电极栅线,形成正背面电极金属化接触。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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