[发明专利]制造极紫外光掩模的方法

摘要

一种制造极紫外光掩模的方法，包括在掩模基板的第一主表面上方形成钼/硅多层堆叠，上述钼/硅多层堆叠包括交替的钼层及硅层。在上述钼/硅多层堆叠上方形成覆盖层。在上述覆盖层上形成吸收层。在上述吸收层上方形成硬掩模层。图案化上述硬掩模层，以形成硬掩模层图案。上述硬掩模层图案延伸到上述吸收层中，以露出上述覆盖层以及形成掩模图案。在上述掩模图案周围形成边界图案。上述边界图案延伸通过上述钼/硅多层堆叠以露出上述掩模基板以及形成围绕上述掩模图案的沟槽。沿着上述沟槽的侧壁形成钝化层。

主权项

1.一种制造一极紫外光掩模的方法，包括：在一掩模基板的一第一主表面上方形成一钼/硅多层堆叠，该钼/硅多层堆叠包括交替的多个钼层及多个硅层；在该钼/硅多层堆叠上方形成一覆盖层；在该覆盖层上形成一吸收层；在该吸收层上方形成一硬掩模层；图案化该硬掩模层，以形成一硬掩模层图案；将该硬掩模层图案延伸到该吸收层中，以露出该覆盖层以及形成一掩模图案；在该掩模图案周围形成一边界图案；将该边界图案延伸通过该钼/硅多层堆叠以露出该掩模基板以及形成围绕该掩模图案的一沟槽；以及沿着该沟槽的多个侧壁形成一钝化层。