[发明专利]一种湿法刻蚀方法

摘要

本发明提出了一种湿法刻蚀方法，创新性的采用了链式与槽式相结合的湿法刻蚀方法，完美的解决了传统链式湿法刻蚀所导致的EL滚轮印、皮带印、黑点黑斑等问题，同时，除刻蚀槽外其他槽体滚轮不再使用，碱槽喷淋不再使用，从而减少了设备耗材的消耗与维护，极大的降低了设备的维护成本和极大的提高了生产效率。另外，本发明湿法刻蚀中碱槽不再使用喷淋，彻底解决了喷淋易堵塞而导致背面多孔硅去除不干净的隐患。

主权项

1.一种湿法刻蚀方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：（1）硅片在滚轮上进行传送，传送到刻蚀槽时，用HNO3/HF混合液对硅片背面进行刻蚀，刻蚀后硅片减薄量0.2‑0.4g，反射率18%‑40%；（2）刻蚀槽完成后传送进花篮，然后通过机械臂将花篮抬起放入水槽，进行纯水洗；（3）水洗完成后，然后通过机械臂将花篮抬起放入碱槽，进行KOH碱洗；（4）碱洗完成后，通过机械臂将花篮抬起放入水槽，进行纯水洗；（5）水洗完成后，通过机械臂将花篮抬起放入酸槽，进行HF酸洗；（6）酸洗完成后，通过机械臂将花篮抬起放入水槽，进行纯水洗；（7）水洗完成后，通过机械臂将花篮抬起放入烘干槽，进行烘干。