[发明专利]一种超级结MOSFET结构及其制造方法在审
| 申请号： | 201811063551.7 | 申请日： | 2018-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN109065612A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 曾大杰 | 申请（专利权）人： | 深圳尚阳通科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336 |
| 代理公司： | 深圳市中科创为专利代理有限公司 44384 | 代理人： | 谭雪婷;高早红 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区高新*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种超级结MOSFET结构及其制造方法，该MOSFET结构包括：A型衬底、形成于所述A型衬底上的A型外延层以及形成于所述A型外延层中的B柱，所述A型外延层包括第一A型外延层以及至少一层第二A型外延层，所述B柱包括深槽蚀刻段以及至少一段外延层段，所述第二A型外延层的层数与所述外延层段的段数相对应，所述B柱的深槽蚀刻段采用深槽蚀刻工艺和B型外延工艺形成，所述B柱外延层段采用B型离子注入工艺形成，所述深槽蚀刻段与外延层段采用高温退火工艺连接起来。本发明能降低加工难度和减少加工的步骤，有利于提升加工效率和良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 外延层 深槽 蚀刻 超级结MOSFET 衬底 离子注入工艺 高温退火 工艺连接 加工效率 蚀刻工艺 外延工艺 良品率 段数 加工 制造 | ||
【主权项】：
1.一种超级结MOSFET结构，其特征在于，包括：A型衬底、形成于所述A型衬底上的A型外延层以及形成于所述A型外延层中的B柱，所述A型外延层包括第一A型外延层以及至少一层第二A型外延层，所述B柱包括深槽蚀刻段以及至少一段外延层段，所述第二A型外延层的层数与所述外延层段的段数相对应，所述B柱的深槽蚀刻段采用深槽蚀刻工艺和B型外延工艺形成，所述B柱外延层段采用B型离子注入工艺形成，所述深槽蚀刻段与外延层段采用高温退火工艺连接起来。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳尚阳通科技有限公司，未经深圳尚阳通科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811063551.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
