[发明专利]一种双波段长波长发光铟镓氮量子阱外延片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811047495.8 申请日: 2018-09-09
公开(公告)号: CN109285922A 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 方志来;吴征远 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/06;H01L33/32
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;陆尤
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于半导体材料技术领域,具体为一种双波段长波长发光铟镓氮量子阱外延片的制备方法。其采用金属有机物化学气相外延技术,先在m面蓝宝石衬底上外延半极性GaN;然后运用界面改性技术处理该GaN;随后在该GaN上继续外延GaN材料,从而获得高质量的GaN模板;最后在GaN模板上生长InGaN/GaN量子阱。界面改性技术提高GaN模板、InGaN/GaN量子阱的晶体质量并抑制穿透缺陷穿透至量子阱;且半极性InGaN/GaN量子阱极化场弱,因此量子阱可以发射出双波段光。本发明的外延片可用于制备紫蓝、蓝绿、绿橙、橙红光等双波段发光二极管。由于发光机制改善,改善现有黄绿光LED发光效率较低的问题。
搜索关键词: 量子阱 双波段 外延片 制备 界面改性 半极性 长波长 铟镓氮 穿透 发光 双波段发光二极管 半导体材料 金属有机物化学 气相外延技术 发光机制 技术处理 橙红光 黄绿光 极化场 衬底 可用 发射 生长
【主权项】:
1.一种双波段长波长发光铟镓氮量子阱外延片的制备方法,其特征在于, 采用金属有机物化学气相沉积技术,具体步骤为:(1)在m面蓝宝石衬底上生长GaN薄膜;(2)利用界面改性技术对薄膜表面进行原位处理;(3)在原位处理过的薄膜上重新生长GaN,获得高质量的GaN模板;重新生长的GaN薄膜的温度为1010‑1060℃;(4)在上述制备的GaN模板上生长InGaN/GaN量子阱。
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