[发明专利]一种阳极靶及X射线发生装置在审

专利信息
申请号: 201811041765.4 申请日: 2018-09-07
公开(公告)号: CN109192643A 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 戴庆;李振军;李驰;白冰;陈科;周圣涵 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: H01J35/08 分类号: H01J35/08
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及X射线技术领域,尤其涉及一种阳极靶及X射线发生装置。本发明提供的阳极靶具有组合式安装结构,包括金属箔片、基体组件和固定组件。其中,金属箔片用于接收高能电子束和产生X射线,且覆盖在至少部分基体组件的外表面,金属箔片与基体组件通过固定组件相固定。本发明提供的阳极靶加工方便、成本低廉且生产效率高。本发明提供的X射线发生装置,通过应用上述阳极靶,加工方便、成本低廉且生产效率高。
搜索关键词: 阳极靶 基体组件 金属箔片 固定组件 加工方便 生产效率 高能电子束 组合式安装 覆盖 应用
【主权项】:
1.一种阳极靶(1),包括基体组件(12)和用于接收高能电子束的金属箔片(11),其特征在于,所述金属箔片(11)覆盖在至少部分所述基体组件(12)的外表面,所述阳极靶(1)还包括固定组件(13),所述金属箔片(11)与所述基体组件(12)通过所述固定组件(13)固定。
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