[发明专利]一种阳极靶及X射线发生装置在审

专利信息
申请号: 201811041765.4 申请日: 2018-09-07
公开(公告)号: CN109192643A 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 戴庆;李振军;李驰;白冰;陈科;周圣涵 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: H01J35/08 分类号: H01J35/08
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阳极靶 基体组件 金属箔片 固定组件 加工方便 生产效率 高能电子束 组合式安装 覆盖 应用
【权利要求书】:

1.一种阳极靶(1),包括基体组件(12)和用于接收高能电子束的金属箔片(11),其特征在于,所述金属箔片(11)覆盖在至少部分所述基体组件(12)的外表面,所述阳极靶(1)还包括固定组件(13),所述金属箔片(11)与所述基体组件(12)通过所述固定组件(13)固定。

2.根据权利要求1所述的阳极靶(1),其特征在于,所述固定组件(13)包括:

固定片(131),设置在所述金属箔片(11)的外表面;以及

螺栓(132),依次穿过所述固定片(131)和所述金属箔片(11),并与所述基体组件(12)固定。

3.根据权利要求1所述的阳极靶(1),其特征在于,所述金属箔片(11)包括反射面(111)和固定面(112),所述反射面(111)与所述电子束所呈夹角为10度~45度,所述固定组件(13)设置在所述固定面(112)上。

4.根据权利要求1所述的阳极靶(1),其特征在于,所述基体组件(12)上设置有接线柱(14)。

5.根据权利要求1所述的阳极靶(1),其特征在于,所述基体组件(12)包括承载体(122)和基体本体(121),所述承载体(122)的一侧面向内凹设有容纳腔,所述容纳腔的底壁上开设有通孔,所述基体本体(121)设置在所述容纳腔中,所述金属箔片(11)封盖在所述容纳腔的开口处,所述基体本体(121)被配置为能让透过所述金属箔片(11)的高能电子束从其内穿透。

6.根据权利要求6所述的阳极靶(1),其特征在于,所述金属箔片(11)通过所述固定组件(13)固定在所述承载体(122)上。

7.根据权利要求1~6任一项所述的阳极靶(1),其特征在于,所述金属箔片(11)的厚度为1微米~50微米。

8.根据权利要求1~6任一项所述的阳极靶(1),其特征在于,所述金属箔片(11)为钨、钼、铜、银、钛、钯、铑、镍、钴、铁或铬中的一种金属单质或至少两种组成的合金。

9.根据权利要求1~6任一项所述的阳极靶(1),其特征在于,至少部分所述基体组件(12)为铍、铜、铝、石墨或碳纤维材料。

10.一种X射线发生装置(100),其特征在于,包括如权利要求1~9任一项所述阳极靶(1)。

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