[发明专利]一种具有V型槽的光伏电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811033465.1 申请日: 2018-09-05
公开(公告)号: CN109192797A 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 管先炳 申请(专利权)人: 苏州钱正科技咨询有限公司
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 代理人: 仲崇明
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种具有V型槽的光伏电池及其制备方法,该制备方法包括以下步骤:对所述N型单晶硅片进行双面制绒处理;接着在所述N单晶硅片的上下表面分别形成多个平行排列的对应的第一V形槽和第二V形槽,在所述N型单晶硅片的上表面和下表面各沉积一氧化铝薄层;在所述N型单晶硅片的上下表面依次沉积相应的非晶硅层、透明导电层以及电极。本发明的光伏电池的结构新颖且光电转换效率优异。
搜索关键词: 光伏电池 制备 上下表面 沉积 光电转换效率 透明导电层 单晶硅片 非晶硅层 制绒处理 上表面 下表面 电极 氧化铝 薄层
【主权项】:
1.一种具有V型槽的光伏电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:1)提供一N型单晶硅片,对所述单晶硅片进行双面制绒处理,在所述单晶硅片的上表面和下表面均形成绒面层;2)接着在所述N单晶硅片的上表面形成多个平行排列的第一V形槽,在所述单晶硅片的下表面形成多个平行排列的第二V形槽,所述第一V形槽的深度与所述N型单晶硅片的厚度的比值为0.65‑0.75,所述第二条形沟槽的深度与所述N型单晶硅片的厚度的比值为0.65‑0.75,多个所述第一V形槽和多个所述第二V形槽分别一一对应,所述第一V形槽的一个侧面与对应的所述第二V形槽的一个侧面平行,所述第一V形槽与对应的所述第二V形槽之间单晶硅层的厚度为40‑60微米;3)在所述N型单晶硅片的上表面和下表面各沉积一氧化铝薄层;4)接着在所述N型单晶硅片的上表面依次沉积第一本征非晶硅层和P型非晶硅层,;5)接着在所述N型单晶硅片的下表面依次沉积第二本征非晶硅层和N型非晶硅层;6)接着在所述N型单晶硅片的上表面沉积第一透明导电层;7)接着在所述N型单晶硅片的下表面沉积第二透明导电层;8)接着在所述N型单晶硅片的上表面形成正面电极;9)接着在所述N型单晶硅片的下表面形成背面电极。
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