[发明专利]一种石墨烯的制备方法有效
| 申请号： | 201811028019.1 | 申请日： | 2018-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN109399622B | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 辛存良;陈剑;王丽;傅斌;范仙红;占化斌;张亚辉;何世安 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十六研究所 |
| 主分类号： | C01B32/19 | 分类号： | C01B32/19 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 赵瑜;奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及石墨烯制备领域，具体涉及一种石墨烯的制备方法，包括以下步骤：S1、将石墨粉体在真空环境下充分除湿干燥；S2、将干燥后石墨粉体装入可封闭的专用工装内，利用等静压法将粉体成型；S3、将等静压成块状的石墨加工成石墨靶材，除湿干燥后通过磁控溅射的方法在基体表面沉积石墨烯膜层，即得到所需石墨烯。本发明可以有效地增加石墨烯的成品率和精确控制石墨烯的沉积厚度，该方法简单、可靠和实用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种石墨烯的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将石墨粉体在真空环境下充分除湿干燥；S2、将干燥后石墨粉体装入可封闭的专用工装内，利用等静压法将粉体成型；S3、将等静压成块状的石墨加工成石墨靶材，除湿干燥后通过磁控溅射的方法在基体表面沉积石墨烯膜层，即得到所需石墨烯。
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