[发明专利]荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法有效
| 申请号： | 201811024591.0 | 申请日： | 2018-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN109459458B | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | 深井隆行;的场吉毅;大柿真毅 | 申请（专利权）人： | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 黄纶伟;孙明浩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法，能够在同一试样容器内不变更配置地测定分析深度不同的元素。荧光X射线分析装置具有：试样容器(4)，其能够收纳试样(S)；X射线源(2)，其向试样照射原级X射线(X1)；检测器(3)，其检测从被照射了原级X射线的试样产生的荧光X射线(X2)；以及照射范围变更机构(5)，其能够变更向试样容器内的试样照射原级X射线的范围，照射范围变更机构能够变更为局部照射和宽范围照射，在该局部照射中，至少向靠近试样容器的与检测器对置的壁面的试样照射原级X射线，在该宽范围照射中，以比局部照射大的区域向试样容器内的试样照射原级X射线。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 射线 分析 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种荧光X射线分析装置，其特征在于，具有：试样容器，其能够收纳试样；X射线源，其向所述试样照射原级X射线；检测器，其检测从被照射了所述原级X射线的所述试样产生的荧光X射线；以及照射范围变更机构，其能够变更向所述试样容器内的所述试样照射所述原级X射线的范围，所述照射范围变更机构能够变更为局部照射和宽范围照射，在该局部照射中，至少向靠近所述试样容器的与所述检测器对置的壁面的所述试样照射所述原级X射线，在该宽范围照射中，以比所述局部照射大的区域向所述试样容器内的所述试样照射所述原级X射线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本株式会社日立高新技术科学，未经日本株式会社日立高新技术科学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811024591.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
