[发明专利]荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法有效
| 申请号: | 201811024591.0 | 申请日: | 2018-09-04 |
| 公开(公告)号: | CN109459458B | 公开(公告)日: | 2023-07-04 |
| 发明(设计)人: | 深井隆行;的场吉毅;大柿真毅 | 申请(专利权)人: | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 黄纶伟;孙明浩 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 荧光 射线 分析 装置 方法 | ||
1.一种荧光X射线分析装置,其特征在于,具有:
试样容器,其能够收纳试样;
X射线源,其向所述试样照射原级X射线;
检测器,其检测从被照射了所述原级X射线的所述试样产生的荧光X射线;以及
照射范围变更机构,其能够变更向所述试样容器内的所述试样照射所述原级X射线的范围,
所述照射范围变更机构能够变更为局部照射和宽范围照射,在该局部照射中,至少向靠近所述试样容器的与所述检测器对置的壁面的所述试样照射所述原级X射线,在该宽范围照射中,以比所述局部照射大的区域向所述试样容器内的所述试样照射所述原级X射线,
所述试样容器具有所述原级X射线能够透过的第1壁面和所述荧光X射线能够透过的第2壁面,
所述X射线源与所述第1壁面相邻配置,并且所述检测器与所述第2壁面相邻配置,
所述照射范围变更机构在所述局部照射时向所述第2壁面的内表面附近照射所述原级X射线,
所述照射范围变更机构根据所述荧光X射线中的要关注的元素的分析深度来调整所述宽范围照射和所述局部照射中的所述原级X射线的照射区域,
所述试样以轻元素为主要成分,
所述照射范围变更机构在检测所述试样中的元素中的Cd、Sn、Sb、Ba中的至少一个时切换为所述宽范围照射,在检测所述试样中的元素中的As、Pb、Hg、Br中的至少一个时切换为所述局部照射。
2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置,其特征在于,
所述照射范围变更机构具有:
准直器,其配置于所述X射线源与所述试样容器之间,具有能够供所述原级X射线透过的多个透过窗;以及
准直器移动机构,其能够以使得所述原级X射线能够透过多个所述透过窗中的任意一个透过窗的方式使所述准直器相对于所述X射线源相对地移动,
所述准直器具有局部用透过窗和宽范围用透过窗作为所述透过窗,该局部用透过窗能够在所述局部照射时使所述原级X射线照射靠近所述检测器的区域,该宽范围用透过窗能够在所述宽范围照射时使所述原级X射线以比所述局部照射大的区域照射所述试样容器内的所述试样。
3.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置,其特征在于,
所述照射范围变更机构具有:
准直器,其配置于所述X射线源与所述试样容器之间,具有能够供所述原级X射线透过的透过窗;以及
准直器移动机构,其能够以使得所述原级X射线能够透过所述准直器的方式使所述准直器相对于所述X射线源相对地移动,
所述准直器移动机构在所述宽范围照射时能够使所述透过窗移动到如下位置,该位置能够使得所述原级X射线以比所述局部照射大的区域照射所述试样容器内的所述试样,
并且,所述准直器移动机构在所述局部照射时能够使所述透过窗移动到如下位置,该位置能够使得所述原级X射线以比所述宽范围照射窄的范围照射所述试样容器内的靠近所述检测器的所述试样。
4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的荧光X射线分析装置,其特征在于,
所述试样是流动性的固体或液体。
5.根据权利要求4所述的荧光X射线分析装置,其特征在于,
所述试样是米粒或者米粉。
6.一种荧光X射线分析方法,其是使用权利要求1所述的荧光X射线分析装置的荧光X射线分析方法,从X射线源向试样容器内的试样照射原级X射线,并通过检测器来检测从所述试样产生的荧光X射线,其特征在于,该荧光X射线分析方法包含如下工序:
局部照射工序,至少向靠近所述试样容器的与所述检测器对置的壁面的所述试样照射所述原级X射线;以及
宽范围照射工序,以比所述局部照射工序大的区域向所述试样容器内的所述试样照射所述原级X射线,
所述试样容器具有所述原级X射线能够透过的第1壁面和所述荧光X射线能够透过的第2壁面,
将所述X射线源与所述第1壁面相邻配置,并且将所述检测器与所述第2壁面相邻配置,
在所述局部照射工序中,向所述第2壁面的内表面附近照射所述原级X射线,
根据所述荧光X射线中的要关注的元素的分析深度来调整所述宽范围照射工序和所述局部照射工序中的所述原级X射线的照射区域,
所述试样以轻元素为主要成分,
在检测所述试样中的元素中的Cd、Sn、Sb、Ba中的至少一个时执行所述宽范围照射工序,在检测所述试样中的元素中的As、Pb、Hg、Br中的至少一个时执行所述局部照射工序。
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