[发明专利]一种晶圆结构及其测试方法有效

专利信息
申请号: 201811008476.4 申请日: 2018-08-31
公开(公告)号: CN109285827B 公开(公告)日: 2019-05-31
发明(设计)人: 罗玉辉;陈柱元;程元红;邝智豪;黄逸生 申请(专利权)人: 深亮智能技术(中山)有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;G01N33/00
代理公司: 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 代理人: 王洪娟;冼俊鹏
地址: 528400 广东省中山市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种晶圆结构及其测试方法,包括叠放的衬底和外延层;所述外延层包括多层间隔设置的金属层和分隔层;其优点在于:在一个晶圆结构上设置多层金属含量不同的金属层,通过一次测试可同时获得多层金属层的氧化数据,进而得到该种功率器件的多种金属含量氧化数据,大大减少了调试所需的时间和成本;由于在同一氧化环境中同时获得多层金属层的氧化数据,提高了氧化环境的统一性,减少了可能存在的由氧化环境设置误差导致的测试结果误差,提高了测试结果的准确性。
搜索关键词: 氧化环境 氧化数据 多层金属层 金属层 外延层 圆结构 测试 种晶 测试结果误差 多层间隔 多层金属 功率器件 晶圆结构 分隔层 衬底 叠放 调试 金属
【主权项】:
1.一种晶圆结构,包括叠放的衬底(110)和外延层;其特征在于,所述外延层包括多层间隔设置的金属层(113)和分隔层(112);所述的各层金属层(113)的金属含量不同;所述金属层(113)为含铝层,其铝含量逐层递变;所述金属层(113)的铝含量变化步长为1%;所述金属层(113)设置七层,其铝含量范围为92%‑98%,最远离衬底(110)的金属层的铝含量为92%,最靠近衬底(110)的金属层的铝含量为98%。
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