[发明专利]母版光栅制作方法在审
| 申请号： | 201810986362.0 | 申请日： | 2018-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN109116456A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 李广伟;陈怀熹;冯新凯;古克义;梁万国 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/40;G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 胡璇 |
| 地址： | 350002 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种母版光栅制作方法，该方法包括以下步骤：采用光刻法以母版基片为原料制作光刻胶光栅，对所得光刻胶光栅进行镀膜操作，得到所述母版光栅。该方法无需刻蚀操作，避免使用价格昂贵的刻蚀设备，工艺简单，操作方便。 | ||
| 搜索关键词： | 母版 光刻胶光栅 光栅制作 光栅 刻蚀设备 光刻法 镀膜 刻蚀 制作 | ||
【主权项】：
1.一种母版光栅制作方法，其特征在于，包括以下步骤：采用光刻法以母版基片为原料制作光刻胶光栅，对所得光刻胶光栅进行镀膜操作，得到所述母版光栅。
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