[发明专利]一种辐射制冷薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种辐射制冷薄膜及其制备方法，包括基膜、反射层以及硬化层，所述硬化层包括上硬化层和下硬化层，所述上硬化层设于基膜的上表面，所述反射层设于基膜的下表面，所述下硬化层设于反射层下表面；其中，所述基膜包括高分子聚合物、微米球体和抗静电剂，所述高分子聚合物为PET、PBT、TPX、PC、PE、PP、PVC、PMMA、PS中的一种，所述微米球体为质量比为3：1的非金属氧化物和金属氧化物，所述高分子聚合物、微米球体与抗静电剂的质量比为75～98:1～20:1～5。本发明在基膜上表面设置上硬化层，在基膜下表面设置反射层，在反射层下表面设置下硬化层，硬化层保护基膜和反射层，反射层用于反射阳光，结构简单，辐射制冷效果好，耐老化性能好。

主权项

1.一种辐射制冷薄膜，其特征在于：包括基膜、设置在基膜下表面的反射层以及硬化层，所述硬化层包括上硬化层和下硬化层，所述上硬化层设于基膜的上表面，所述下硬化层设于反射层下表面；其中，所述基膜包括高分子聚合物、微米球体和抗静电剂，所述高分子聚合物为PET、PBT、TPX、PC、PE、PP、PVC、PMMA、PS中的一种，所述微米球体为质量比为3：1的非金属氧化物和金属氧化物，非金属氧化物为SiO2、SiC、SiS2中的一种，金属氧化物为TiO2、BaSO4、CaCO3中的一种，所述抗静电剂为纳米级氧化铟锡或乙氧基化脂肪族烷基胺类中的一种，所述高分子聚合物、微米球体与抗静电剂的质量比为75～98:1～20:1～5。