[发明专利]光掩膜版保护膜的去除系统及方法在审

专利信息
申请号: 201810967179.6 申请日: 2018-08-23
公开(公告)号: CN110858057A 公开(公告)日: 2020-03-03
发明(设计)人: 高丁山 申请(专利权)人: 芯恩(青岛)集成电路有限公司
主分类号: G03F1/82 分类号: G03F1/82;G03F1/48
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 266000 山东省青岛市*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供一种光掩膜版保护膜的去除系统及方法,光掩膜版保护膜的去除系统包括:气罩,底部设有凹槽,顶部设有与所述凹槽相连通的通孔;抽真空装置;吸气管路,一端经由所述通孔与所述凹槽相连通,另一端与所述抽真空装置相连接。本发明的光掩膜版保护膜的去除系统可以在去除光掩膜版上的保护膜时先采用真空抽气的方式去除保护膜层,然后再去除环形边框,这样在保护膜去除的过程中就不会有保护膜层掉落在光掩膜版上,不会对光掩膜版造成污染,从而提升良率,节约成本。
搜索关键词: 光掩膜版 保护膜 去除 系统 方法
【主权项】:
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