[发明专利]阵列基板有效

专利信息
申请号: 201810951224.9 申请日: 2018-08-21
公开(公告)号: CN109148480B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 陈彩琴 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种阵列基板,包括:衬底基板;设置在所述衬底基板之上的第一金属设置在所述第一金属之上的第一缓冲层;设置在所述第一缓冲层之上的第二金属;设置在所述第二金属之上的第二缓冲层;设置在所述第二缓冲层之上的第三金属;其中,所述第一缓冲层与所述第二缓冲层之间设置有过孔,所述第一金属通过所述过孔与所述第三金属电连接,所述第一金属、所述第二金属和所述第三金属组成并联电容。本发明通过将栅极金属与电容金属或源漏极金属相连,使栅极金属、源漏极金属和电容金属之间的电容并联,进而在保持单个像素面积不变的前提下增加补偿电路的电容,以实现显示面板的高清晰度。
搜索关键词: 阵列
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;设置在所述衬底基板之上的第一金属;设置在所述第一金属之上的第一缓冲层;设置在所述第一缓冲层之上的第二金属;设置在所述第二金属之上的第二缓冲层;设置在所述第二缓冲层之上的第三金属;其中,所述第一缓冲层与所述第二缓冲层之间设置有过孔,所述第一金属通过所述过孔与所述第三金属电连接,所述第一金属、所述第二金属和所述第三金属组成并联电容。
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