[发明专利]一种基于核稀疏和空间约束的高光谱目标检测方法在审

专利信息
申请号: 201810915698.8 申请日: 2018-08-13
公开(公告)号: CN109190506A 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 陈进;詹明;孙邱鹏;张均萍;田铠侨;陈东;王雄;陈阳;冯莉 申请(专利权)人: 北京市遥感信息研究所
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 北京市科名专利代理事务所(特殊普通合伙) 11468 代理人: 陈朝阳
地址: 100085 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于核稀疏和空间约束的高光谱目标检测方法,在特征空间中计算残差与当前像元及其领域矩阵典范基的内积,寻找该内积与过完备基矩阵列向量的最大值,利用最小二乘法计算核稀疏系数向量,在原始维空间更新原始像元及其领域的残差和重构残差,判断当前像元残差范数小于残差阀值是否满足,计算出当前像元检测值,判断当前像元检测值是否大于所设定的判断阀值,若大于判断阀值,则标记为目标,否则标记为背景;输出高光谱图像中所有像元的检测值。本发明充分利用高光谱图像的非线性特性和空间信息,有效提高目标检测结果的精度。
搜索关键词: 残差 像元 目标检测 高光谱图像 空间约束 高光谱 内积 稀疏 检测 最小二乘法计算 基矩阵列向量 非线性特性 空间更新 空间信息 领域矩阵 特征空间 稀疏系数 原始像元 典范基 范数 向量 重构 输出
【主权项】:
1.一种基于核稀疏和空间约束的高光谱目标检测方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,输入高光谱图像,在特征空间中计算残差与当前像元及其领域矩阵典范基的内积,寻找该内积与过完备基矩阵列向量的最大值,标记索引向量,并将索引向量并入索引集合,同时更新重构基集合;S2,根据S1中更新后的重构基集合,在特征空间中利用最小二乘法计算核稀疏系数向量;S3,根据S2中的核稀疏系数向量在原始维空间更新原始像元及其领域的残差和重构残差;S4,判断S3中当前像元残差范数小于残差阀值是否满足,若满足则根据核稀疏系数向量计算出当前像元检测值;若不满足,则停止当前像元检测,返回S1进行下一像元检测;S5,根据S4中所计算出当前像元检测值,判断当前像元检测值是否大于所设定的判断阀值,若大于判断阀值,则标记为目标,否则标记为背景;S6,对输入的高光谱图像中的每个像元实行步骤S1‑S5,输出高光谱图像中所有像元的检测值。
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