[发明专利]升降针系统、真空反应腔室以及半导体加工设备

摘要

本发明实施例公开了一种升降针系统、真空反应腔室以及半导体加工设备，其中，升降针系统包括：聚焦环、静电卡盘、聚焦环起升装置和晶圆升针顶升装置；聚焦环起升装置包括：聚焦环顶针和第一升降驱动装置，第一升降驱动装置驱动聚焦环顶针升起或下降，用以将聚焦环顶起或降下；晶圆升针顶升装置包括：晶圆顶针和第二升降驱动装置，第二升降驱动装置驱动晶圆顶针升起或下降，用以将放置在聚焦环上的晶圆顶起或降下。本发明的系统、真空反应腔室以及设备，能够提高异常维护效率；通过在预定工艺时间后精确提升聚焦环的高度，使聚焦环的使用寿命提高一倍；可实现在不破化反应腔真空的情况下更换聚焦环，提高更换易耗件的效率。

主权项

1.一种升降针系统，其特征在于，包括：聚焦环、静电卡盘、聚焦环起升装置和晶圆升针顶升装置；所述聚焦环设置在所述静电卡盘上，用于放置晶圆；所述聚焦环起升装置和所述晶圆升针顶升装置位于所述静电卡盘的下方；所述聚焦环起升装置包括：聚焦环顶针和第一升降驱动装置，所述第一升降驱动装置驱动所述聚焦环顶针升起或下降，用以将所述聚焦环顶起或降下；所述晶圆升针顶升装置包括：晶圆顶针和第二升降驱动装置，所述第二升降驱动装置驱动所述晶圆顶针升起或下降，用以将放置在所述聚焦环上的晶圆顶起或降下。