[发明专利]抛光垫及其制备方法、应用有效
| 申请号： | 201810896250.6 | 申请日： | 2018-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN110815038B | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 朱顺全;车丽媛;张季平;吴晓茜 | 申请（专利权）人： | 湖北鼎龙控股股份有限公司;湖北鼎汇微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24D11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 430057 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种抛光垫及其制备方法、应用。该抛光垫具有组合片和底衬，组合片固定于底衬上，组合片共同形成抛光层，抛光层具有中心抛光区、环绕中心抛光区依次设置的一个或一个以上的中间抛光区以及环绕中间抛光区设置的外缘抛光区，且中心抛光区为圆形，中间抛光区为环形，外缘抛光区为环形；相邻两个抛光区之间均形成环状缝隙，环状缝隙用于接收抛光过程中的抛光流体；抛光层的肖氏硬度沿中心抛光区至外缘抛光区的方向依次减小；相邻两个抛光区肖氏硬度梯度为0.5‑5D。该抛光垫的硬度沿直径方向逐步减小，在机械抛光过程中，其磨损率基本维持一致，故能够使得所要抛光的晶片表面变得平坦，且平坦化效率较高。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北鼎龙控股股份有限公司;湖北鼎汇微电子材料有限公司，未经湖北鼎龙控股股份有限公司;湖北鼎汇微电子材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810896250.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种荸荠饮料
- 下一篇：水包油型乳化组合物以及包含其的化妆品
