[发明专利]全色型Micro-LED器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810863787.2 申请日: 2018-08-01
公开(公告)号: CN109037291B 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 刘斌;王丹蓓;赵红;陶涛;谢自力;修向前;陈敦军;周玉刚;张荣;郑有炓 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L33/06;H01L33/32;H01L51/50
代理公司: 江苏斐多律师事务所 32332 代理人: 张佳妮
地址: 210023 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于III‑氮化物/有机半导体混合杂化结构的全色型Micro‑LED阵列显示及白光器件,其混合了无机与有机发光二极管器件来获得高效率、超高分辨率且主动式的Micro‑LED显示和照明光源。在具有p‑n结构的InxGa1‑xN/氮化镓量子阱蓝光LED外延片的N型氮化镓层上分别蒸镀红光、绿光或者黄光有机材料,依次包括电子传输层、发光层、激子阻挡层、空穴传输层、空穴注入层;在蒸镀其中一组材料时,利用遮挡掩膜将其他像素遮蔽。此技术结合了有机半导体材料和无机半导体材料,能够实现高效率、宽色域、功耗低、响应时间快的新型无机/有机半导体混合结构Micro‑LED器件阵列。
搜索关键词: 全色 micro led 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于III‑氮化物/有机半导体混合杂化结构的全色型Micro‑LED阵列显示器件,其结构自下而上包括:一蓝宝石衬底;一生长在蓝宝石衬底上的氮化镓缓冲层;一生长在缓冲层上的N型氮化镓层;一生长在N型氮化镓层上的InxGa1‑xN/氮化镓量子阱有源层;一生长在量子阱有源层上的P型氮化镓层;所述LED阵列器件刻蚀形成贯穿P型氮化镓层、量子阱有源层,深至N型氮化镓层的阵列式正方形台面结构,各正方形台面相互隔离;还包括一P型电极,蒸镀在P型氮化镓层上,一N型电极,蒸镀在N型氮化镓层上;其特征在于:所述正方形台面阵列包括多个像素单元,多个像素单元重复排列,每个像素单元至少包括一蓝光LED、一红光LED、一绿光LED,所述红光LED和绿光LED的正方形台面均刻蚀至N型氮化镓层,红光LED为在N型氮化镓层上蒸镀有机红光发光二极管构成,绿光LED为在N型氮化镓层上蒸镀有机绿光发光二极管构成。
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