[发明专利]一种纳米孔金薄膜的制作方法及应用该薄膜的硅基在审
申请号: | 201810839588.8 | 申请日: | 2018-07-27 |
公开(公告)号: | CN108996469A | 公开(公告)日: | 2018-12-14 |
发明(设计)人: | 赵复生;李静婷;赵俊洋 | 申请(专利权)人: | 纤瑟(天津)新材料科技有限公司 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 北京红福盈知识产权代理事务所(普通合伙) 11525 | 代理人: | 陈月福 |
地址: | 300000 天津市滨海新区经济技术开发区信环西路19号泰达*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种纳米孔金薄膜的制作方法及应用该薄膜的硅基,包括待加工的硅片,微结构纳米孔金薄膜的制作方法包括以下步骤:在硅片的表面制作形成均匀的单层聚苯乙烯微球层,使用氧气等离子缩小聚苯乙烯微球的直径,保证微球间隙,在硅片上蚀刻出微结构,将聚苯乙烯微球层移出硅片的加工面,形成硅基,在硅基表面均匀覆盖一层金银合金薄膜,将金银合金薄膜中的银原子去除,形成微结构纳米孔金薄膜。本发明的有益效果是,通过在硅片的表面形成聚苯乙烯微球层,然后在硅基表面通过反应离子蚀刻出不同的硅基表面微结构的方法,将孔金薄膜铺设在不同微结构的硅基表面,经过比较可以简便的得到最优的用于拉曼光谱测量的孔金薄膜结构。 | ||
搜索关键词: | 金薄膜 微结构 硅片 聚苯乙烯微球 硅基表面 纳米孔 薄膜 金银合金 制作 硅基 反应离子蚀刻 拉曼光谱测量 蚀刻 氧气等离子 表面形成 均匀覆盖 加工面 银原子 单层 微球 移出 去除 应用 铺设 加工 保证 | ||
【主权项】:
1.一种纳米孔金薄膜的制作方法及应用该薄膜的硅基,包括待加工的硅片,其特征在于,微结构纳米孔金薄膜的制作方法包括以下步骤:a、在硅片的表面制作形成均匀的单层聚苯乙烯微球层。b、使用氧气等离子缩小聚苯乙烯微球的直径,保证微球间隙。c、在硅片上蚀刻出微结构。d、将聚苯乙烯微球层移出硅片的加工面,形成硅基。e、在硅基表面均匀覆盖一层金银合金薄膜。f、将金银合金薄膜中的银原子去除,形成微结构纳米孔金薄膜。
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