[发明专利]等离子体装置及其工作方法在审
| 申请号： | 201810834842.5 | 申请日： | 2018-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN109037020A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 徐翼丰;曾德强;盖晨光;刘家桦;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 徐文欣;吴敏 |
| 地址： | 223302 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种等离子体装置及其工作方法，等离子体装置包括：腔室；耦合于腔室的等离子体发生单元，用于产生等离子体；位于所述腔室内的基座，基座固定于腔室底部，且所述基座用于承载待处理基底；耦合于腔室的等离子体偏置单元，用于驱动等离子体在腔室内向基座表面运动；第一电极，固设于腔室的部分内侧壁表面，且所述第一电极顶部表面高于基底的顶部表面，且第一电极被施加直流正电压。利用所述等离子体装置有利于降低等离子体沿平行于基座表面方向上对待处理基底处理程度的差异。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 腔室 等离子体装置 第一电极 顶部表面 基座表面 耦合 基底 等离子体发生单元 室内 内侧壁表面 直流正电压 基底处理 偏置单元 固设 平行 承载 施加 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体装置，其特征在于，包括：腔室；耦合于所述腔室的等离子体发生单元，用于产生等离子体；位于所述腔室内的基座，所述基座固定于腔室底部，且所述基座用于承载待处理基底；耦合于所述腔室的等离子体偏置单元，用于驱动所述等离子体在腔室内向基座表面运动；第一电极，固设于所述腔室的部分内侧壁表面，且所述第一电极顶部表面高于基座的顶部表面，且所述第一电极被施加直流正电压。
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