[发明专利]曝光装置和物品制造方法有效
| 申请号： | 201810814943.6 | 申请日： | 2018-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN109307987B | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 水谷将树 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了曝光装置和物品制造方法。被配置为使基板暴露于光的装置包括：照明光学系统，被配置为照明掩模；投影光学系统，被配置为将掩模的图案投影到基板上；和偏心机构，被配置为使照明光学系统的至少一个光学元件相对于投影光学系统的光轴偏心，或者使投影光学系统的至少一个光学元件相对于照明光学系统的光轴偏心，并且，通过偏心机构使光学元件偏心来改变在从投影光学系统的聚焦位置散焦的位置处发生的旋转不对称畸变。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种被配置为将基板暴露于光的装置，其特征在于，所述装置包括：照明光学系统，被配置为照明掩模；投影光学系统，被配置为将掩模的图案投影到基板上；和偏心机构，被配置为使照明光学系统的至少一个光学元件相对于投影光学系统的光轴偏心，或者使投影光学系统的至少一个光学元件相对于照明光学系统的光轴偏心，其中，通过偏心机构使光学元件偏心来改变在从投影光学系统的聚焦位置散焦的位置处发生的旋转不对称畸变。
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