[发明专利]曝光装置和物品制造方法

说明书

公开了曝光装置和物品制造方法。被配置为使基板暴露于光的装置包括：照明光学系统，被配置为照明掩模；投影光学系统，被配置为将掩模的图案投影到基板上；和偏心机构，被配置为使照明光学系统的至少一个光学元件相对于投影光学系统的光轴偏心，或者使投影光学系统的至少一个光学元件相对于照明光学系统的光轴偏心，并且，通过偏心机构使光学元件偏心来改变在从投影光学系统的聚焦位置散焦的位置处发生的旋转不对称畸变。

技术领域

实施例的方面涉及曝光装置和物品制造方法。

背景技术

在使用光刻技术制造诸如半导体元件和液晶显示元件之类的元件的情况下，使用曝光装置。这种曝光装置使投影光学系统将掩模的图案投影到基板上，并转印图案。

期望增强诸如掩模表面和基板表面之类的照明目标表面上的照明均匀性，并且期望用于照明照明目标表面上的每个点的照明光的角度分布的光量重心(远心度)垂直于基板以在基板上形成精细图案。

然而，远心度可能劣化(degrade)。在这种情况下，当基板在从投影光学系统的像面(聚焦位置)在光轴方向上移位的位置处暴露于光时，基板表面上的聚焦图像的位置在垂直于光轴的方向上偏移。此外，远心度可能在照明目标表面上的每个位置处不同。在这种情况下，在基板表面上形成畸变图像。

日本专利申请特开No.2003-59817讨论了一种曝光装置，其即使在基板的位置在散焦方向上移位的情况下也能校正由相对于基板的照明光的远心特征的劣化引起的旋转对称畸变(图像的畸变)。在日本专利申请特开No.2003-59817中讨论的曝光装置中，存储关于要由光学系统产生的远心度的信息，并且根据定位基板的位置处的散焦量来在光轴方向上驱动透镜，从而使基板暴露于光。这减少了诸如投影倍率(magnification)之类的旋转对称畸变。

可能由于透镜表面形状的制造误差而发生光学系统像差，并因此可能在散焦位置处发生旋转不对称畸变。日本专利申请特开No.2003-59817中讨论的曝光装置在光轴方向上驱动透镜以校正旋转对称畸变。然而，日本专利申请特开No.2003-59817没有公开用于校正这种旋转不对称畸变的技术。

此外，在将厚膜抗蚀剂施加到基板并且然后使基板暴露于光的情况下，在从投影光学系统的像面在光轴方向上散焦的位置处的畸变被控制以控制抗蚀剂轮廓(图案形状)。基板经历包括先前的曝光步骤的基板处理步骤。由于这种基板处理步骤使得已经形成在基板上的图案畸变，因此需要能够使可选的畸变上的图案重叠并使图案暴露于光的曝光装置。

发明内容

根据实施例的一个方面，被配置为使基板暴露于光的装置包括：照明光学系统，被配置为照明掩模；投影光学系统，被配置为将掩模的图案投影到基板上；和偏心机构，被配置为使照明光学系统的至少一个光学元件相对于投影光学系统的光轴偏心，或者使投影光学系统的至少一个光学元件相对于照明光学系统的光轴偏心，并且，通过偏心机构使光学元件偏心来改变在从投影光学系统的聚焦位置散焦的位置处发生的旋转不对称畸变。

参考附图，根据以下对示例性实施例的描述，本公开的其它特征将变得清楚。

附图说明

图1是示出了根据第一示例性实施例的曝光装置的示意图。

图2是示出了远心度的图。

图3是示出了存在远心度误差的状态的图。

图4A和图4B是示出了远心度的像高依赖性的图。

图5是示出了曝光装置的远心度的图。

图6是示出了通过使照明光学系统偏心提供的远心度特性的图。

图7是示出了在使照明光学系统偏心之后的曝光装置的远心度误差的图。

图8是示出了旋转不对称畸变的图。