[发明专利]图形化衬底的方法在审
| 申请号： | 201810803885.7 | 申请日： | 2018-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN108919614A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 徐平;冯磊 | 申请（专利权）人： | 湘能华磊光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 | 代理人： | 于淼 |
| 地址： | 423038 湖南省郴*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种图形化衬底的方法，包括：在衬底的表面形成2.0～2.7μm厚的光刻掩膜；通过曝光机和光刻版对光刻掩膜进行曝光处理；将曝光处理后的衬底送入显影设备，对衬底表面喷淋负性显影液，然后使用有机冲洗剂冲洗衬底表面，旋干后送至热板烘烤，得到一次显影后的衬底；将一次显影后的衬底继续送入显影设备，对衬底表面喷淋负性显影液，然后使用有机冲洗剂冲洗衬底表面，旋干后送至热板烘烤，得到二次显影后的衬底。通过采用负性显影液进行两次显影，光刻图形的显影质量更好，能够有效提高光刻图形的分辨率，确保光刻图形尺寸的一致性，提高衬底图形化后的出光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 衬底表面 光刻图形 图形化 显影液 负性 显影 有机冲洗剂 曝光处理 显影设备 一次显影 烘烤 喷淋 热板 冲洗 送入 表面形成 出光效率 光刻掩膜 光刻版 曝光机 分辨率 掩膜 | ||
【主权项】：
1.一种图形化衬底的方法，其特征在于，包括：在衬底的表面形成2.0～2.7μm厚的光刻掩膜；通过曝光机和光刻版对光刻掩膜进行曝光处理；将曝光处理后的衬底送入显影设备，对衬底表面喷淋负性显影液，然后使用有机冲洗剂冲洗衬底表面，旋干后送至热板烘烤，得到一次显影后的衬底；其中，所述负性显影液在衬底表面的保留时间T1＝30～40s；所述有机冲洗剂的冲洗时间M1＝20～30s；所述热板的烘烤温度D1＝100～110℃，烘烤时间N1＝40～60s；将一次显影后的衬底继续送入显影设备，对衬底表面喷淋负性显影液，然后使用有机冲洗剂冲洗衬底表面，旋干后送至热板烘烤，得到二次显影后的衬底；其中，所述负性显影液在衬底表面的保留时间T2＝1.2T1；所述有机冲洗剂的冲洗时间M2＝0.9M1；所述热板的烘烤温度D2＝1.1D1，烘烤时间N2＝0.8N1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湘能华磊光电股份有限公司，未经湘能华磊光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810803885.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种变焦曝光方法
- 下一篇：一种显影装置及利于该装置的显影液循环系统
