[发明专利]一种三元p型CuBi2有效

专利信息
申请号: 201810775365.X 申请日: 2018-07-16
公开(公告)号: CN109148593B 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 任锦华;张群 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/34
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;陆尤
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于薄膜晶体管技术领域,具体为一种三元p型CuBi2O4薄膜晶体管及其制备方法。本发明采用射频磁控溅射技术在热氧化SiO2基片上制备p型CuBi2O4沟道层,源漏电极采用Au、Ni、Cu或ITO电极,形成具有一定p型调制功能的底栅结构型TFT器件。本发明制备的CuBi2O4沟道层具有稳定的p型半导体特性,器件结构简单且制备工艺与微电子兼容,在OLED显示以及透明电子电路中具有广阔的工业应用前景。
搜索关键词: 一种 三元 cubi base sub
【主权项】:
1.一种三元p型CuBi2O4薄膜晶体管,其特征在于,包括:(1)衬底,作为栅电极使用;(2) 绝缘层,为氧化物薄膜,生长在上述硅衬底上;(3) 沟道层,为p型CuBi2O4薄膜,生长在上述绝缘层上;(4) 源漏电极,材料为Au、Ni、Cu或ITO,生长在上述沟道层上。
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