[发明专利]一种下限为10-10Pam3/s的正压漏孔校准系统与方法在审

专利信息
申请号: 201810772049.7 申请日: 2018-07-13
公开(公告)号: CN108982021A 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 卢耀文;刘志宏;齐京;杨传森;田虎林;董云宁;闫睿;延峰 申请(专利权)人: 北京东方计量测试研究所
主分类号: G01M3/20 分类号: G01M3/20
代理公司: 北京善任知识产权代理有限公司 11650 代理人: 高杰;陈艳
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明是一种下限为10‑10Pam3/s的正压漏孔校准系统与方法,该系统包括:分子泵抽气系统、一个高纯氦气瓶、一个高纯氮气瓶、一个气体采样阀门(V4)、十个真空阀门(V1,V2,V3,V5,V6,V7,V8,V9,V10,V11)、三个真空室(VC1,VC2,VC3)、三个真空计(G1,G2,G3)、一个四极质谱仪(G4)、一个分子流进样元件(C)、一个吸气剂泵(NEG)、一个被校正压漏孔和一个恒温箱。
搜索关键词: 漏孔 校准系统 正压 分子泵抽气系统 四极质谱仪 高纯氮气 高纯氦气 进样元件 气体采样 吸气剂泵 真空阀门 分子流 恒温箱 真空计 真空室 阀门 校正
【主权项】:
1.一种下限为10‑10Pam3/s的正压漏孔校准系统,其特征在于,该系统包括:分子泵抽气系统、一个高纯氦气瓶、一个高纯氮气瓶、一个气体采样阀门(V4)、十个真空阀门(V1,V2,V3,V5,V6,V7,V8,V9,V10,V11)、三个真空室(VC1,VC2,VC3)、三个真空计(G1,G2,G3)、一个四极质谱仪(G4)、一个分子流进样元件、一个吸气剂泵、一个被校正压漏孔和一个恒温箱,该系统中,分子泵抽气系统通过第一真空阀门(V1)、第二真空阀门(V2)与气体采样阀门(V4)入口相连接,抽气系统通过第三真空阀门(V3)、第五真空阀门(V5)与气体采样阀门(V4)的出口连接,高纯氦气瓶通过第二真空阀门(V2)与第一真空计(G1)和气体采样阀门(V4)入口连接,高纯氮气瓶通过第五真空阀门(V5)与气体采样阀门(V4)出口连接,气体采样阀门(V4)的出口与第二真空计(G2)、第六真空阀门(V6)、第七真空阀门(V7)和第八真空阀门(V8)连接,第六真空阀门(V6)另一端与真空室(VC1)相连接,第七真空阀门另一端与安装于恒温室内的被校正压漏孔相连接,第八真空阀门(V8)另一端与第九真空阀门和分子流进样元件分别相连接,第九真空阀门(V9)和分子流进样元件的另一端均与质谱分析室(VC2)相连接,第三真空计(G3)和四极质谱分析仪(G4)安装在质谱分析室(VC2)上,分子泵抽气系统和吸气剂泵分别通过第十真空阀门(V10)、第十一真空阀门(V11)与质谱分析室(VC2)连接。
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