[发明专利]一种三元复合图形衬底的制作方法在审
| 申请号： | 201810762724.8 | 申请日： | 2018-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN108987541A | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 许南发;刘蔚华;席庆男;王晓慧;郭文平 | 申请（专利权）人： | 山东元旭光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/12 |
| 代理公司： | 济南诚智商标专利事务所有限公司 37105 | 代理人： | 杨筠 |
| 地址： | 261000 山东省潍坊市高新*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体材料制作技术领域，提供一种三元复合图形衬底的制作方法，包括：获取一清洗干净的蓝宝石基板；在所述蓝宝石基板上制作一层有规则排列的图形层，形成二元图形衬底；在形成的所述二元图形衬底上溅射一层氮化铝复合层，形成三元复合图形衬底，从而实现实现蓝宝石复合衬底的制作，能有效对氮化镓基的材料应力有效释放，减少氮化镓生长缺陷；同时蓝宝石结构图层对发光二极管的光提取效率的改善更为显著。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 三元复合 制作 蓝宝石基板 二元图形 蓝宝石 半导体材料 发光二极管 光提取效率 材料应力 氮化镓基 规则排列 生长缺陷 有效释放 氮化铝 氮化镓 复合层 图形层 溅射 清洗 复合 | ||
【主权项】：
1.一种三元复合图形衬底的制作方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：获取一清洗干净的蓝宝石基板；在所述蓝宝石基板上制作一层有规则排列的图形层，形成二元图形衬底；在形成的所述二元图形衬底上溅射一层氮化铝复合层，形成三元复合图形衬底。
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