[发明专利]气浴腔结构、气浴装置及光刻设备有效
| 申请号： | 201810690346.7 | 申请日： | 2018-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN110658682B | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 戴思雨;赵建军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种气浴腔结构，并将该气浴腔结构应用到气浴装置中。所述气浴腔结构包括孔板和楔形的气浴腔，所述孔板设置于所述气浴腔内，将所述气浴腔分隔为若干静压腔。所述气浴装置包括进风管道和所述的气浴腔装置，所述进风管道与所述气浴腔的进风口连接。在光刻设备内部空间有限的前提下，本发明提出的气浴腔可直接替换原有气浴腔，未对光刻设备提出共同改造的要求，具有良好的替代性。 | ||
| 搜索关键词： | 气浴腔 结构 装置 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种气浴腔结构，其特征在于，所述气浴腔结构包括孔板和楔形的气浴腔，所述孔板设置于所述气浴腔内，将所述气浴腔分隔为若干静压腔。/n
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