[发明专利]气浴腔结构、气浴装置及光刻设备有效
| 申请号: | 201810690346.7 | 申请日: | 2018-06-28 |
| 公开(公告)号: | CN110658682B | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
| 发明(设计)人: | 戴思雨;赵建军 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
| 地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 气浴腔 结构 装置 光刻 设备 | ||
1.一种气浴腔结构,其特征在于,所述气浴腔结构包括孔板和楔形的气浴腔,所述孔板设置于所述气浴腔内,将所述气浴腔分隔为若干静压腔,所述气浴腔包括一斜面和一出风面,所述斜面与所述出风面相对,所述气浴腔的进风口设置于两端分别与所述斜面和所述出风面相连接的侧面;所述孔板以预定的倾角设置于所述气浴腔内,所述倾角为所述孔板与垂直于所述出风面的方向之间的夹角,所述孔板的数量至少为3个,从靠近所述气浴腔的进风口的一侧至远离所述气浴腔的进风口的一侧,至少3个所述孔板的倾角依次递增。
2.如权利要求1所述的气浴腔结构,其特征在于,所述出风面所在平面与所述斜面的夹角大于arctg0.05。
3.如权利要求1所述的气浴腔结构,其特征在于,所述倾角的范围为12°-30°。
4.如权利要求1所述的气浴腔结构,其特征在于,所述孔板为3个,依次为第一孔板、第二孔板和第三孔板;所述第一孔板设置于所述气浴腔的进风口处;所述第一孔板的倾角范围为12°-18°,所述第二孔板的倾角范围为20°-25°,所述第三孔板的倾角范围为25°-30°。
5.如权利要求1-4中任一项所述的气浴腔结构,其特征在于,所述孔板的开孔率范围为20%-40%。
6.如权利要求4所述的气浴腔结构,其特征在于,所述第一孔板的开孔率范围为20%-30%,所述第二孔板的开孔率范围为35%-40%,所述第三孔板的开孔率范围为35%-40%。
7.如权利要求5所述的气浴腔结构,其特征在于,所述出风面所在平面与所述斜面的夹角的正切值与所述孔板的开孔率的乘积范围为0.01-0.03。
8.一种气浴装置,其特征在于,所述气浴装置包括进风管道和如权利要求1至7中任一项所述的气浴腔结构;所述进风管道与所述气浴腔的进风口连接。
9.如权利要求8所述的气浴装置,其特征在于,所述气浴装置还包括过滤器,所述过滤器设置于所述气浴腔的出风面。
10.一种光刻设备,其特征在于,包括如权利要求1-7中任一项所述的气浴腔结构。
11.一种光刻设备,其特征在于,包括如权利要求8-9中任一项所述的气浴装置。
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