[发明专利]阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置

摘要

本公开公开一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置，涉及显示技术领域，用于简化阵列基板的制作工艺。该阵列基板的制作方法包括：在衬底基板上依次形成遮光层和缓冲层；在缓冲层上形成有源层，并在有源层中形成第一过孔；在有源层上形成层间介质层；通过一次构图工艺，在层间介质层中对应第一过孔的位置形成第二过孔，并在缓冲层中对应第一过孔的位置形成第三过孔；在层间介质层上形成源/漏电极层，使源/漏电极层依次通过第二过孔、第一过孔及第三过孔与遮光层电连接。本公开提供的阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置用于采用顶栅型薄膜晶体管制作的阵列基板。

主权项

1.一种阵列基板的制作方法，包括：在衬底基板上依次形成遮光层和缓冲层，其特征在于，还包括：在所述缓冲层背向所述衬底基板的一侧形成有源层，并在所述有源层中形成第一过孔；在所述有源层背向所述衬底基板的一侧形成层间介质层；通过一次构图工艺，在所述层间介质层中对应所述第一过孔的位置形成第二过孔，并在所述缓冲层中对应所述第一过孔的位置形成第三过孔，所述第二过孔的关键尺寸大于所述第一过孔及所述第三过孔的关键尺寸，且所述第一过孔及所述第三过孔在所述衬底基板上的正投影处于所述第二过孔在所述衬底基板上的正投影范围之内；在所述层间介质层背向所述衬底基板的一侧形成源/漏电极层，所述源/漏电极层依次通过所述第二过孔、所述第一过孔及所述第三过孔与所述遮光层电连接。